Perahu Pembersih Wafer Kuarsa
Kapal pembersih wafer kuarsa minangka piranti sing digunakake kanggo ngresiki wafer ing proses manufaktur semikonduktor.
Bahan: 99,99% kuarsa
Gambaran
Fitur
- Resistance suhu dhuwur
- resistance karat
- Nyandhang resistance
- Gampang kanggo ngresiki
Gunakake: mbusak rereged lumahing
Mesthekake kualitas manufaktur kripik semikonduktor.
Aplikasi
1. Pra-Reresik Difusi
Digunakake kanggo ngeterake wafer liwat bangku teles utawa langkah reresik celup (contone, reresik RCA) kanggo mbusak rereged organik, metalik, lan partikel sadurunge proses difusi utawa oksidasi suhu dhuwur.
2. Pembersihan Post-CMP (Chemical Mechanical Planarization).
Nyepeng wafer sajrone ngresiki polesan -kanggo ngilangake residu slurry lan cacat lumahing, njamin flatness optimal kanggo langkah litografi sakteruse.
3. Ngarep-Pungkasan-saka-Line (FEOL) Fabrikasi
Digunakake ing tahap reresik FEOL kritis ing ngendi permukaan ultra{0}}resik dibutuhake kanggo wutah gerbang oksida, deposisi epitaxial, utawa implantasi ion.
4. Mbalik-Pungkasan-saka-Line (BEOL) Processing
Ndhukung wafer sajrone resik-etch utawa post{1}}deposisi kanggo mbusak photoresist, produk sampingan etch, lan rereged metalik sawise kabentuk interkoneksi.
5. Kemasan Lanjut
Nggampangake wafer-reresik tingkat sadurunge dicing utawa bonding ing 2.5D/3D IC packaging, njamin kontaminasi -antarmuka gratis kanggo interkoneksi dipercaya.
6. Photovoltaic Manufaktur
Digunakake ing produksi sel surya kanggo ngresiki substrat silikon, ningkatake kualitas permukaan kanggo panyerepan cahya sing luwih apik lan efisiensi konversi energi.
Properti
|
Sifat Fisik |
Nilai |
|
Kemurnian |
＞99.99% |
|
Kapadhetan |
2,2 g/cm3 |
|
Transparansi |
＞90% |
|
Kekerasan Mohs |
5.5--6.5 |
|
Titik deformasi |
1280 derajat |
|
Titik Lembut |
1750 derajat |
|
Titik Annealing |
1250 derajat |
|
Kalor Spesifik (20 - 350 derajat) |
670J/kg. gelar |
|
Konduktivitas termal (20 derajat) |
1.4W/m. gelar |
|
Konduktivitas Panas (w/mk, 1000 derajat) |
1.0-1.2 |
|
Indeks bias |
1.4585 |
|
Koefisien Ekspansi Termal |
5.510 -7cm/cm. gelar |
|
Panas - suhu kerja |
1750--2050 derajat |
|
Jangka singkat - Suhu Layanan |
1450 derajat |
|
Suhu Layanan jangka panjang -. |
1100 derajat |
|
Sifat Kimia |
Nilai |
|
tahan asam |
Asam kuwat (kajaba HF), alkali kuat, solusi organik |
|
Suhu dhuwur tahan korosi |
Banget |
|
Kandungan Pengotor Logam |
<5 ppm |
|
Properti Listrik |
Nilai |
|
Resistivity |
7107Ω.cm |
|
Kekuwatan Isolasi |
250~400Kv/cm |
|
Konstanta dielektrik |
3.7~3.9 |
|
Koefisien Penyerapan Dielektrik |
＜410-4 |
|
Koefisien Rugi Dielektrik |
＜110-4 |
|
Sifat Mekanik |
Nilai |
|
Kekuwatan Kompresi |
1100MPa |
|
Kekuwatan Mlengkung |
67 MPa |
|
Kekuwatan Tensile |
48MPa |
|
Rasio Poisson |
0.14~0.17 |
|
Modulus Young |
72000MPa |
|
Modulus geser |
31000MPa |
Cara ngresiki
Reresik immersion:
Selehake wafer ing prau reresik, banjur kacemplungaken prau reresik ing cairan reresik, lan nambah kontak antarane Cairan reresik lan lumahing wafer kanthi ngangkat prau wafer kanggo nambah efek reresik.
Pembersihan semprotan:
Ngadeg prau reresik mujur ing kamar semprotan, lan gunakake muncung kanggo nyemprotake cairan pembersih ing permukaan wafer kanggo mbusak rereged. .
Pentinge ngresiki kapal:
- Mesthekake kebersihan wafer: Lumahing wafer sing resik penting banget kanggo kualitas manufaktur kripik semikonduktor, lan prau reresik nduweni peran penting ing proses reresik.
- Mesthekake linuwih Kripik semikonduktor: Njamin linuwih Kripik lan nyuda cacat produk dening njabut rereged lumahing.
- Ngapikake asil saka Kripik semikonduktor: Ngapikake kebersihan wafer, saéngga nambah asil saka Kripik semikonduktor.
Panas Tags: kapal pembersih wafer kuarsa, produsen kapal pembersih wafer kuarsa China, pemasok, pabrik
Kirim Enquiry
Sampeyan bisa uga Kaya
